기사제목 SK하이닉스, '도시바리스크' 3천억 합의로 해소
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SK하이닉스, '도시바리스크' 3천억 합의로 해소

기사입력 2014.12.20 10:59
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SK하이닉스 전경.jpg
 
 
SK하이닉스(대표 박성욱)가 안고있던 '도시바리스크' 가 해소됐다.
 
지난 3월 일본 검찰이 전 SK하이닉스의 직원인 스기다를 부정경쟁방지법 위반 혐의로 기소하자, 도시바측에서 "SK하이닉스가 도시바의 정보를 활용했다"며 민사소송을 제기했다. 손해배상 규모가 1조1000억이었다. SK하이닉스는 도시바측과 이 문제에 대해 3천억원(2억7800달러)의 합의금을 주고 타결지었다. 도시바는 이소송을 취하하기로 했다.  1조원 소송규모의 1/3수준이지만 3천억원 합의금도 작은 규모는
아니다. SK하이닉스는 지난해 사상최대 영업이익 3조3800억원을 기록했다. 이번 합의금은 그 영업이익의 1/10정도 된다. 
 
 
SK하이닉스는 소송을 매듭지으며 차세대 공정기술을 공동으로 개발하기로 했다. 
 
양사가 공동으로 개발하기로 한 NIL((Nano Imprint Lithography, 이하 ‘NIL’) 기술은 차세대 리소그래피 공정기술이다. NIL은 더욱 가늘어지는 메모리 미세화 패턴을 구현하는데 있어 적합한 기술로 평가 받고 있다. 막대한 투자가 선행돼야 하는 기존 공정기술과 비교해 경제적인 양산이 가능하다는 장점도 인정받고 있다.
 
업계는 메모리 공정 미세화의 한계를 극복하기 위해 EUV(극자외선) 활용 등 다양한 노력을 해오고 있다. NIL 기술도 한계 극복을 위한 방안 중 하나로 개발돼왔다. NIL은 EUV 대신 UV(자외선)를 광원으로 활용한다. EUV 장비 가격이 상당한 고가여서 UV를 광원으로 활용하면 상대적으로 비용면에서 장점이 있다.
 
양사는 이번 공동개발을 통해 차세대 공정기술인 NIL 개발의 성공 가능성을 높이고 제품 양산을 통한 이 기술의 상용화를 확대할 수 있을 것으로 예상하고 있다. 또 제품 양산시 원가경쟁력도 향상시킬 수 있게 되는 효과도 기대할 수 있게 됐다.
 
SK하이닉스는 도시바와 소송전으로 마찰을 빚긴 했으나, 오래전부터 협력을 주고받았다. 2007년에는 특허 상호 라이선스 계약을 체결했고 2011년부터는 차세대 메모리인 ‘STT-M램’의 공동개발을 진행해 오고 있다. SK하이닉스는 도시바 외에도 IBM, HP와도 ‘PC램’과 ‘Re램’을 공동 개발하고 있다.
 
SK하이닉스는 4분기에도 사상최대실적 달성이 예상된다.
 
도현우 미래에셋증권 연구원은 "2Ynm 공정의 본격 적용으로 인해 DRAM 출하량이 전분기 대비 12% 증가할 것으로 예상된다. SK하이닉스의 이번 4분기 실적은 매출액이 전분기 대비 15% 증가한 4조9600억원, 영업이익은 23% 늘은 1조6000억원, 순이익은 17% 늘은 1조2800억원을 기록할 것"이라고 말했다.
 
그는 이어 "NAND 역시 1Ynm 공정의 본격적인 양산 시작으로 과거 뒤쳐졌던 경쟁사 대비 단가 경쟁력이 향상 됐다. 주요 고객사와 대량 납품 계약을 체결함으로써 출하량이 전분기 대비 23% 증가할 것"이라며 "추가적으로 아이폰 6 등 고객사의 양호한 스마트폰 출하량 증가 지속으로 PC 수요가 늘어나 DRAM의 평균판매단가(ASP)도 증가할 것으로 기대된다"고 말했다. [비즈트리뷴=정윤선 기자]
 
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